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EDI設(shè)備可以是制成品水，進到純儲水箱儲存，為了確保水體，青島EDI設(shè)備選用氫氣密封性的方式，即從純儲水箱的頂端灌進氫氣。供電后，液位儀真空電磁閥與PLC相互配合，當(dāng)純儲水箱的水位線小于較低水位線時，PLC運行水處理程序流程，全部開機啟動水處理，直到純儲水箱的水量做到*大水位線，系統(tǒng)軟件終止水處理，那樣循環(huán)系統(tǒng)，維持純儲水箱的水位線。

選用電鍍工藝去離子水設(shè)備的特性是水體平穩(wěn)，成本費相比較低。去離子水設(shè)備是一種用以除去水里的微離子的水處理系統(tǒng)，如ro反滲透.離子交換器.EDI等。去離子水設(shè)備特性平穩(wěn)，廣泛運用于藥業(yè)、電子器件、化工廠、夾層玻璃、水渠、加熱爐、試驗室等領(lǐng)域。青島EDI設(shè)備電鍍工藝的生產(chǎn)流程。

1.離子交換法的流程如下所示：源水→原水壓力泵→砂過濾裝置→多介質(zhì)過濾器→反滲透設(shè)備→呈陽性環(huán)氧樹脂過濾裝置→呈陰性環(huán)氧樹脂過濾裝置→陽陰環(huán)氧樹脂切換閥→微孔過濾器→水點的應(yīng)用。

2.源水→原水加壓水泵→砂過濾機→多介質(zhì)過濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲水箱，選用ro反滲透方法。

3.青島EDI設(shè)備應(yīng)用ro反滲透混合床，加工工藝如下所示：源水→原水壓力泵→砂過濾裝置→多介質(zhì)過濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲水箱→壓力泵→離子混合床→反滲透設(shè)備→水點。